Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module ให้คุณสามารถควบคุมความแม่นยำของพิกเซลได้อย่างเร็ว สำหรับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module มีพื้นฐานอยู่บน DLP9000XUV, หรือ Digital Micromirror Device (DMD) ประเภท A ขนาด 0.9 นิ้ว ที่มีความเร็วสูงแบบ UV WQXGA และมีความละเอียด 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่างmirror array ที่ 7.56 ไมครอน  

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module  เมื่อใช้ร่วมกับ DLPLCRC910EVM ทำให้ผู้ใช้สามารถควบคุมรูปแบบ 1 บิตได้อย่างแม่นยำและเร็วขึ้น แพลตฟอร์ม DLPLCR90XUVEVM ให้ความยืดหยุ่นและความเร็วสูงสำหรับการใช้งานที่เกี่ยวข้องกับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

คุณสมบัติที่น่าสนใจ:

  • รองรับช่วงความยาวคลื่น 355 นาโนเมตรถึง 420 นาโนเมตร และสามารถสร้างรูปแบบ 1 บิตได้ที่ความเร็วสูงสุดถึง 14,989 ฮัรตซ์
  • DLP9000XUV DMD มีความละเอียดที่ 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่าง mirror array ที่ 7.56 ไมครอน
  • มาพร้อมบอร์ด DMD ที่มีรูแต่งตั้งสำหรับการติดตั้งที่สะดวก
  • รวมถึงสายสื่อสาร High-Performance Computing (HPC) ขนาด 12 นิ้วเพื่อการตั้งค่าตำแหน่งของ DMD ได้ง่ายบนโต๊ะทดลองการทำงาน

บทความที่เกี่ยวข้อง

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module ให้คุณสามารถควบคุมความแม่นยำของพิกเซลได้อย่างเร็ว สำหรับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

นักเขียนบทความ
by 
นักเขียนบทความ
Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module ให้คุณสามารถควบคุมความแม่นยำของพิกเซลได้อย่างเร็ว สำหรับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module มีพื้นฐานอยู่บน DLP9000XUV, หรือ Digital Micromirror Device (DMD) ประเภท A ขนาด 0.9 นิ้ว ที่มีความเร็วสูงแบบ UV WQXGA และมีความละเอียด 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่างmirror array ที่ 7.56 ไมครอน  

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module  เมื่อใช้ร่วมกับ DLPLCRC910EVM ทำให้ผู้ใช้สามารถควบคุมรูปแบบ 1 บิตได้อย่างแม่นยำและเร็วขึ้น แพลตฟอร์ม DLPLCR90XUVEVM ให้ความยืดหยุ่นและความเร็วสูงสำหรับการใช้งานที่เกี่ยวข้องกับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

คุณสมบัติที่น่าสนใจ:

  • รองรับช่วงความยาวคลื่น 355 นาโนเมตรถึง 420 นาโนเมตร และสามารถสร้างรูปแบบ 1 บิตได้ที่ความเร็วสูงสุดถึง 14,989 ฮัรตซ์
  • DLP9000XUV DMD มีความละเอียดที่ 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่าง mirror array ที่ 7.56 ไมครอน
  • มาพร้อมบอร์ด DMD ที่มีรูแต่งตั้งสำหรับการติดตั้งที่สะดวก
  • รวมถึงสายสื่อสาร High-Performance Computing (HPC) ขนาด 12 นิ้วเพื่อการตั้งค่าตำแหน่งของ DMD ได้ง่ายบนโต๊ะทดลองการทำงาน

บทความที่เกี่ยวข้อง

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module ให้คุณสามารถควบคุมความแม่นยำของพิกเซลได้อย่างเร็ว สำหรับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

Lorem ipsum dolor amet consectetur adipiscing elit tortor massa arcu non.

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module มีพื้นฐานอยู่บน DLP9000XUV, หรือ Digital Micromirror Device (DMD) ประเภท A ขนาด 0.9 นิ้ว ที่มีความเร็วสูงแบบ UV WQXGA และมีความละเอียด 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่างmirror array ที่ 7.56 ไมครอน  

Texas Instruments DLPLCR90XUVEVM Evaluation Module  เมื่อใช้ร่วมกับ DLPLCRC910EVM ทำให้ผู้ใช้สามารถควบคุมรูปแบบ 1 บิตได้อย่างแม่นยำและเร็วขึ้น แพลตฟอร์ม DLPLCR90XUVEVM ให้ความยืดหยุ่นและความเร็วสูงสำหรับการใช้งานที่เกี่ยวข้องกับการสร้างรูปแบบและภาพถ่ายขั้นสูง

คุณสมบัติที่น่าสนใจ:

  • รองรับช่วงความยาวคลื่น 355 นาโนเมตรถึง 420 นาโนเมตร และสามารถสร้างรูปแบบ 1 บิตได้ที่ความเร็วสูงสุดถึง 14,989 ฮัรตซ์
  • DLP9000XUV DMD มีความละเอียดที่ 2560 x 1600 พิกเซลพร้อมระยะห่างระหว่าง mirror array ที่ 7.56 ไมครอน
  • มาพร้อมบอร์ด DMD ที่มีรูแต่งตั้งสำหรับการติดตั้งที่สะดวก
  • รวมถึงสายสื่อสาร High-Performance Computing (HPC) ขนาด 12 นิ้วเพื่อการตั้งค่าตำแหน่งของ DMD ได้ง่ายบนโต๊ะทดลองการทำงาน

Related articles